現代社會從收[Shou]音機到攜帶電話,計算機及(Ji)電視都離不開集成電路,而集成電路的生産[Chan]和發展(Zhan)都離不開真空。

　　水[Shui]蒸[Zheng]氣遇冷會[Hui]變成(Cheng)水滴。如[Ru]果不是(Shi)水蒸(Zheng)氣而換成鋁或其他材料(Liao),則同樣原理[Li]就(Jiu)是真空鍍氣。高[Gao]真空中通過(Guo)加(Jia)熱使鋁蒸發,鋁[Lü]蒸[Zheng]氣飛到目标[Biao]表面而成膜。如果不(Bu)是在真空狀态,則鋁會燃燒起來。

　　用久的螢(Ying)光[Guang]燈兩邊會發黑,這是濺射[She]成膜的現象。惰性氣體(Ti)Ar在燈管中經[Jing]過放電而成離子狀态。高速的Ar離子撞擊其他材料後使其蒸發。濺射成膜法(Fa)不利用加熱[Re]而是利用使(Shi)氣體分子離子化而完成。

　　除此之外,通過各種氣體的化學反應而成膜(CVD)的方(Fang)法也被廣泛[Fan]使(Shi)用。各種成[Cheng]膜方[Fang]法各(Ge)有特長,要根據需(Xu)要而定。

　　真空狀态(Tai)不僅(Jin)僅被利用(Yong)于成(Cheng)膜方面,精(Jing)密形成的薄[Bao]膜上沾(Zhan)了(Le)灰(Hui)塵或油滴之(Zhi)後[Hou]會出現嚴重的後果。集(Ji)成電路中細線的寬度(Du)是吸煙時吐出的煙霧顆粒的1/3, 是一顆灰[Hui]塵的近萬分之一。對(Dui)集成電路[Lu]而言,哪(Na)怕一顆[Ke]煙霧的顆粒,就好象大路上停了一架大型飛機一樣,無法通過(Guo)或造成短路。為了(Le)不讓灰塵落到正[Zheng]在生産[Chan]的集成電路(Lu)上(Shang),需要真空環[Huan]境(Jing)。

　　科研領域更是離不開真空。宇[Yu]宙開發方面,為[Wei]了模拟宇宙(Zhou)空[Kong]間,當然需[Xu]要真空狀态。人造衛星,火箭的生産也需要真空。觀[Guan]察原子的顯(Xian)微鏡如果不是在(Zai)真空[Kong]狀态[Tai]就無(Wu)法觀[Guan]測[Ce]到物質[Zhi]的表面。物理學中最先端的粒(Li)子加速器中的粒子,在超高真(Zhen)空狀态中被加速到接近光速[Su]。