現代社會從收(shōu)音機到攜(xié)帶電話,計算機及(jí)電視都離不開集成電路,而集成電路的生(shēng)産和發展都離不開真空。

　　水蒸氣遇冷會變成(chéng)水滴。如果不是水蒸氣而換成鋁或其他材料(liào),則同樣(yàng)原(yuán)理就是真空鍍氣。高真空中(zhōng)通過加熱使鋁蒸發,鋁(lǚ)蒸氣飛到目标表面而成膜。如果(guǒ)不是在(zài)真空狀态,則鋁會燃燒起來。

　　用(yòng)久的螢光燈兩邊會(huì)發黑,這是濺射(shè)成膜的現象。惰(duò)性(xìng)氣體Ar在燈管中經(jīng)過放電而成離子(zǐ)狀态。高速的(de)Ar離子撞擊其他材料(liào)後使其蒸發。濺射成膜法不利用加熱而是利用使氣體(tǐ)分子離子化而完成。

　　除此之外,通過(guò)各種氣體的化學反(fǎn)應而成膜(CVD)的方(fāng)法也被廣泛使用。各種成(chéng)膜方法各(gè)有特長,要(yào)根(gēn)據需要而定。

　　真空狀态不僅僅被利用于成膜方面,精密(mì)形成的薄膜上沾了灰塵或油滴之後會出現嚴重的後果。集成電路中細線的寬度是吸煙時吐出的煙霧顆粒的1/3, 是一顆灰塵的近萬分之一。對集成電路而言,哪怕一顆煙霧的顆粒,就(jiù)好象大路上停了一(yī)架大型飛(fēi)機一樣,無法通過或造(zào)成短路。為了(le)不讓灰塵落到(dào)正在生産的集成電路上,需要真空環(huán)境。

　　科研領域更是離不開真空。宇宙開發方面,為了模(mó)拟宇宙空間,當然需(xū)要真空狀态。人造衛星,火箭的(de)生産也需要真空。觀(guān)察原子的顯微鏡如果不是在真空(kōng)狀态(tài)就無法觀測到物質的表面。物理學中最先端的(de)粒子加速器中的粒子(zǐ),在超高真空狀态(tài)中被加速到接近光速。